! 영상링크
https://www.youtube.com/watch?v=41bY0J2QGAo&list=PLqpgv5OuV7fplk9aBbECauz1YLLVymqHh&index=13
! 내용요약
이러한 차이는 반도체 트랜지스터가 발달해서 그렇다
반도체 셀 1개는 반도체 기본단위. 네모난 반도체는 어마어마한 셀이 들어가 있음
디램은 커패시터가 있다
커패시터는 전하를 임시로 저장하는 곳
전하를 많이 안고있을 수록 성능이 좋은 것
반도체 미세화시키기 위해 소스와 드레인 사이를 좁히면 커패시터역시 좁아져야함 줄이면 전하가 밖으로 팅겨나가려고함
이렇게 팅겨져 나가는 것을 막기 위해 High-k 라는 소재를 써야함
유전율을 쉽게설명해보자
BTS가 옆에있으면 기분이 좋아지고 웃음이 나온다. -> BTS는 유전율이 높다. 매력이 높다. 전하를 유혹할 수 있는 능력이 높다
일반인은 그렇지 않다.
이렇게 유전율이 높은게 High-K다
커패시터에 전하가 많이 남아있으면 성능이 좋아짐.
High-k를 쓰기 위해서는 일반적 증착장비로는 불가능
지르코늄은 유전율이 40
3.9보다 높으면 유전율이 높다고 함
하지만 이렇게 하면 누설전류가 발생해서 Al2O3를 섞어서 ZAZ 유전율 25로 사용
현재 대세는 ZAZ
소재 개발중인데 TiO2는 유전율 40, 전극은 RU로 바뀜
하지만 쉽지가 않다. 사용하기엔 아직 편하게 사용할 수 없는 기술
예전에는 미국이나 일본기업이 독점했는데 현재는 한국 기업이 개발하고 있다
밸류체인
